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4-Punkt-Proben
für präzise Widerstandsmessungen

Anwendungen der 4-Punkt-Proben

MPP 4-Punkt-Proben sind speziell für die Widerstandsmessung | -Mapping von:

  • Siliziumwafern

  • Epitaktischen Schichten

  • Ionenimplantierten und diffundierten Schichten

  • Metallischen und anderen Dünnschichtmaterialien

entwickelt worden.

Sie gewährleisten genaue und reproduzierbare Messungen in der Halbleiterindustrie und Materialforschung.

mpp-4-point-probs-4.JPG

Merkmale und Vorteile

  • Rubin-geführte reibungsarme Nadelbewegung

  • Variable Spitzenradien und Nadelabstände

  • Individuelle Nadeldruckeinstellung (50-200 grf)

  • Hohe Durchbruchspannung, niedrige Leckage

  • Wolframkarbid- oder Osmium-Legierung Nadelspitzen

  • Verschiedene Designs ( Aluminium, etc.)

  • Kundenspezifische Anpassungen

  • Refurbishment-Programm

MPP 4 Point Probe – hochpräziser Probekopf zur Widerstandsmessung auf Wafer-level
MPP 4 Point Probe – hochpräziser Probekopf zur Widerstandsmessung auf Wafer-level
MPP 4 Point Probe – hochpräziser Probekopf zur Widerstandsmessung auf Wafer-level
MPP 4 Point Probe – hochpräziser Probekopf zur Widerstandsmessung auf Wafer-level

Noch Fragen?

Wir bieten Ihnen eine unverbindliche Expertenberatung für Ihre Anwendung.

für Deutschland, Österreich & der Schweiz

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